Les microprocesseurs sont produits dans de vastes usines où les tranches de silicium ultrapures sont soumises à de nombreux traitements successifs utilisant divers liquides, comme l’eau pure, les acides ou encore certains produits chimiques spécialisés. Ces fluides sont stockés dans des réservoirs et acheminés vers les zones de production via un réseau complexe de conduites.

Dans le cas décrit, la consommation des liquides n’était jusqu’ici évaluée qu’en fonction du niveau des réservoirs, ce qui limitait fortement la finesse du pilotage des processus. Une mesure directe du débit était donc souhaitée, à la fois pour optimiser les opérations et pour renforcer la maîtrise environnementale. Par ailleurs, la moindre contamination — notamment par des ions métalliques — peut compromettre entièrement les étapes de fabrication des semi-conducteurs, ce qui impose une méthode de mesure absolument hygiénique.

La technologie de mesure non intrusive par ultrasons constitue une solution parfaitement adaptée. Les capteurs se fixent simplement à l’extérieur des conduites, y compris sur les flexibles lorsque l’installation l’exige. Ils n’entrent jamais en contact avec les liquides, ce qui élimine tout risque de contamination. De plus, la présence d’acides agressifs utilisés pour le traitement des wafers n’affecte ni la durabilité des capteurs ni la fiabilité des mesures.

La méthode permet aussi une maîtrise très fine des consommations, grâce à une mesure extrêmement précise même lorsque les débits sont très faibles, parfois de seulement quelques litres par heure. Cela contribue à optimiser les process, réduire les pertes et garantir une meilleure traçabilité des ressources utilisées.

Avantages